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洗浄対象の材料変化・微細化に伴う難洗浄化や洗浄要求の高まりに対し、洗浄力に特化した各種洗浄剤により課題を解決いたします。
微細化・低背化が進む半導体チップ・実装部品の極微細な隙間を考慮し、専用設計された洗浄剤を用いることで、フラックス洗浄性を大幅に強化できます。
高解像度で剥離が難しいドライフィルムや高アスペクトパターン等、一般的なアミン系剥離剤でも剥離が困難なケースにおいても、剥離性の改善が期待できます。
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